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直流磁控反应溅镀NiCr-CN薄膜性能研究

陳正士  徐華陽  陳曉強  馬闖  
【摘要】:采用直流磁控溅射技术在不锈钢304基体上沉积NiCr-CN膜层。利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)和辉光放电发射光谱仪(GD-OES)分别对膜层微观形貌及成分-深度分布进行分析:采用显微维氏硬度计及洛氏硬度计测评薄膜机械性能。结果表明:采用直流磁控溅射可沉积出表面光滑、颜色均匀、附著力与韧性较好之NiCr-CN薄膜,其硬度和附著性能优化参数组合为功率3000W,偏压20V,C_2H_2流量20sccm,N_2流量40sccm。

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