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高功率脉冲磁控溅射技术——灵活的薄膜技术

田修波  吴忠振  巩春志  杨士勤  
【摘要】:正高功率脉冲(HPPMS)技术由于较高的溅射粒子离化率而得到人们重视,该技术在欧洲兴起已有多年,国内研究刚刚起步。利用直流功率和脉冲功率的耦合,可以获得高离化率的脉冲时段,通过高功率脉冲的占空比可以调节沉积到基片上原子和离子的比例。这样通过改变基片

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