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负偏压对磁控溅射氧化铝薄膜的影响

林晶  刘壮  孙智慧  高德  
【摘要】:正1实验实验使用东方盖德公司生产的缠绕式直流磁控溅射设备进行磁控溅射薄膜沉积的研究,基材为普通的36μm的 PET 薄膜,所用阴极靶为高纯 Al 靶(纯度为99.999%)。溅射工作气体为纯度为99.

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