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原子层沉积技术及其应用前景

熊玉卿  罗崇泰  王多书  
【摘要】:正原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD)于上世纪70年代起源于芬兰,90 年代中期得到发展,该项技术是继分子束外延技术之后发展的又一项精确表面层制备技术,可以实现在原子水平上控制表面层的形成和生长。

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