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自偏压对PMMA基底上沉积的含氢非晶碳膜的影响(英文)

蔺增  李明  王凤  巴德纯  In-Seop Lee  
【摘要】:分别用等离子体增强化学气相沉积和磁控溅射的方法在PMMA基底上沉积含氢非晶碳膜和硅膜以应用于生物医学领域。硅膜是用氩离子溅射硅靶制备,而非晶碳膜是以甲烷和氢气为反应气体在不同偏压下制备的。研究发现,所制备的碳膜是包含sp2和sp3两种结构的非晶体,与基底材料相比该碳膜在硬度和耐磨性能等方面有明显的提高。结果表明,该非晶碳膜的显微结构、机械和摩擦学特性均显著依赖于薄膜沉积过程中的所用的自偏压。

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