Ti表面磁控溅射Nb膜的研究

【摘要】：Ti 表面磁控溅射 Nb 膜作为 Ti 与其他金属连接的合金层或过渡层有着重要的研究意义和实用价值。本文研究了基体温度、薄膜厚度、真空退火对 Nb 膜附着性和组织结构的影响,应用扫描电镜观察了膜层表面和界面,用 X 射线衍射分析研究了膜层物相组成,用划痕法测试了薄膜的附着性。结果表明:薄膜组织为纤维状晶粒;溅射时对基体适当加热有利于成膜的致密性;一定温度范围内的真空退火可以提高附着性,但不显著,温度达到500℃后,薄膜发生剥落;Nb 膜厚度从500nm 增加到2000nm,晶粒变大,附着性变差;溅射及退火过程中均无新相生成。