【摘要】：平面直流磁控溅射装置磁控放电等离子模拟为磁控溅射系统仿真的子过程。通过对磁控溅射原理及过程的研究,分析了等离子体模拟在该装置的系统分析及优化设计中的重要性。根据模型的种类,求解问题的维数以及自洽性对磁控放电等离子体模拟方法进行了分类,重点对离子体模拟所采用的动力学模型,流体模型,粒子模型,混合模型以及简化模型进行了讨论。通过比较这些模型的优点和局限性,并根据平面直流磁控溅射放电的特殊性,对几种模型在该装置等离子模拟中的适用性进行了分析。兼顾问题求解的速度和质量,二维自洽粒子模拟与三维非自洽粒子模拟是两种需要重点研究的方法。最终对等离子体模拟在磁控溅射装置分析设计中的进一步应用进行了展望。