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电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力研究

陈焘  罗崇泰  王多书  金扬利  
【摘要】:二氧化钛薄膜的应力分布对薄膜滤光片的影响是值得考虑的;在圆形硅基底上采用电子束加热蒸发制备了二氧化钛薄膜。薄膜应力测试结果表明二氧化钛薄膜的内应力分布是不均匀的; 二氧化钛薄膜的内应力集中主要出现在薄膜的边缘区域,有正应力的集中也有负应力的集中。原子力显微镜(AFM)结果显示不同的沉积速率和沉积温度下制备的二氧化钛薄膜具有不同的晶体结构和应力分布;沉积速率和沉积温度对二氧化钛薄膜内应力的影响是明显的,可以通过选择合适的沉积参数使内应力降低或达到最小。

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