非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能研究

【摘要】：正氮化硅薄膜是具有优良的机械性能、热稳定性能、光电性能、绝缘耐压性能、以及钝化性能等, 不仅在光电子、微电子等大规模集成电路和半导体器件制造中有着广泛的应用,而且在机械行业也有着广阔的应用前景。本文采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化硅薄膜。通过改变氮气和氩

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前20条

1	赵萍;麻晓园;邹美玲;;晶体硅太阳电池减反射膜的研究[J];现代电子技术;2011年12期
2	杨拉毛草;周晖;郑军;桑瑞鹏;万志华;;偏压对掺钨含氢类金刚石碳膜摩擦学性能的影响[J];润滑与密封;2011年08期
3	刘志平;赵谡玲;徐征;刘金虎;李栋才;;PECVD沉积氮化硅膜的工艺研究[J];太阳能学报;2011年01期
4	;[J];;年期
5	;[J];;年期
6	;[J];;年期
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18	;[J];;年期
19	;[J];;年期
20	;[J];;年期

中国重要会议论文全文数据库

前10条

1	张琦;尹龙;齐峰;冷永祥;黄楠;;非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能研究[A];中国真空学会2006年学术会议论文摘要集[C];2006年
2	刘晓亭;陈茜;罗静;王文宇;陈皓;;多孔石英陶瓷上化学气相沉积氮化硅薄膜[A];2011年全国青年摩擦学与表面工程学术会议论文集[C];2011年
3	张檀威;黄辉;蔡世伟;黄永清;任晓敏;;PECVD法沉积氮化硅薄膜性质工艺实验研究[A];2009年先进光学技术及其应用研讨会论文集（下册）[C];2009年
4	叶小琴;王文静;李艳;励旭东;许颖;周宏余;;PECVD沉积氮化硅薄膜在生长及退火过程中的特性变化及在太阳电池中的应用[A];21世纪太阳能新技术——2003年中国太阳能学会学术年会论文集[C];2003年
5	衡阳;许颖;李仲明;于元;;磁控溅射氮化硅薄膜的特性及其在太阳电池上的应用[A];中国太阳能学会2001年学术会议论文摘要集[C];2001年
6	王明娥;陆文琪;孙文立;徐军;董闯;;同轴双放电腔微波ECR等离子体源增强非平衡磁控溅射制备SiN_x薄膜研究[A];第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会会议摘要集[C];2009年
7	周之斌;赵占霞;陈凤祥;古丽娜;孟凡英;崔容强;;太阳电池烧穿工艺对氮化硅薄膜的光学性质的影响[A];中国太阳能学会2001年学术会议论文摘要集[C];2001年
8	刘文德;陈赤;樊其明;徐英莹;张静;;玻璃基底和粗糙度在氮化硅薄膜椭偏测量中的影响[A];中国光学学会2011年学术大会摘要集[C];2011年
9	于伟东;廖家轩;夏立芳;柳襄怀;王曦;;磁控靶材料对极低气压下RF-UBM金属等离子体特性的影响[A];第四届华东真空科技学术交流展示会学术论文集[C];2003年
10	徐均琪;杭凌侠;惠迎雪;;非平衡磁控溅射无氢DLC增透膜的研制[A];2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集[C];2005年

中国博士学位论文全文数据库

前6条

1	丁万昱;微波ECR磁控溅射制备超薄a-SiN_x薄膜及其特性研究[D];大连理工大学;2007年
2	齐雪莲;会切场约束ICP增强非平衡磁控溅射放电及应用研究[D];大连理工大学;2008年
3	崔云先;瞬态切削用NiCr/NiSi薄膜热电偶测温刀具研究[D];大连理工大学;2011年
4	张以忱;中频非平衡磁控溅射制备硬质复合薄膜的研究[D];东北大学;2008年
5	姜礼华;含硅量子点SiN_x薄膜特性及其在太阳电池中的应用[D];华中科技大学;2012年
6	吴志立;闭合场非平衡脉冲磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜结构与性能研究[D];大连理工大学;2010年

中国硕士学位论文全文数据库

前10条

1	王春;中频磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能的研究[D];大连理工大学;2011年
2	张磊;脉冲激光沉积氮化硅薄膜的工艺研究[D];武汉理工大学;2011年
3	周东;PECVD氮化硅薄膜制备与微结构研究[D];电子科技大学;2011年
4	何银;SiN_x:H薄膜的制备及研究[D];上海师范大学;2012年
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6	杨林生;非平衡磁控溅射方法替代电沉积技术的应用工艺研究与设计[D];合肥工业大学;2010年
7	杨鹏;射频感应耦合等离子体辅助非平衡磁控溅射的Langmuir探针和发射光谱诊断[D];大连理工大学;2010年
8	吴清鑫;氮化硅薄膜力学性能的研究及其在射频MEMS开关中的应用[D];福州大学;2005年
9	高峰;磁控溅射法制备氮化硅薄膜及其性能研究[D];武汉理工大学;2010年
10	张化福;TFT栅绝缘层用氮化硅薄膜的研究[D];电子科技大学;2005年

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