磁控溅射含Ti非晶碳膜的微观结构分析

【摘要】：用磁控溅射方法制备了含Ti的非晶碳膜。XPS分析了碳键结构、化合物组成,碳膜的C1s峰都在284eV附近,碳膜中sp2较sp3占明显优势,说明碳键结构以sp2为主。含Ti碳膜的Ti2p谱有 TiC所对应的峰,说明形成了TiC;XRD、TEM的分析结果证明碳膜的晶体结构为非晶,未添加金属元素的碳膜除基体的Si峰外,未发现其他相的存在,加入Ti后,出现了对应的碳化物TiC相。可以认定:磁控溅射制备的碳膜是碳键结构以sp2为主非晶碳膜,加入Ti后,在非晶的基体上形成 Ti化合物的晶体颗粒。