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离子束辅助沉积Co_(50)Nb_(50)薄膜表面结构的研究

吕方  曾飞  谷宇  潘峰  
【摘要】:正本文利用离子束辅助沉积技术,通过改变离子束入射方向与薄膜表面法线的夹角,制备了一系列厚度为50nm的Co50Nb50薄膜,并研究了离子束入射方向对薄膜表面结构的影响。实验中,离子束入射角分别为0°、30°、45°、75°和88°(掠射)。研究结果表明,采用离子束辅助沉积技术制备的 Co50Nb50薄膜均具有非晶态结构。材料的表面结构与离子束入射方向密切相关,离子束垂直于薄膜表面入射(0°入射)时,薄膜表面产生渗流花样:入射角为30°时,渗流现象更加明显,薄膜表面粗

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