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等离子体技术在光学制造中的应用

刘卫国  
【摘要】:本报告针对光学制造过程所提出的要求,探讨等离子体技术在光学制造中的应用。介绍了常见的等离子体产生方式,包括直流与射频等离子体产生及其耦合方式;介绍了可能在光学制造中获得应用的等离子体源,包括具有宽能量范围的气体离子束源、双离子束溅射源、离子束增强非平衡磁控溅射源、化学增强等离子体源等。从光学制造的基本要求出发, 总结了针对此类特定应用的等离子体产生方式及其特征。以纳米级超光滑光学表面加工为例,总结了利用等离子体手段实现超光滑光学表面加工与面型控制的主要技术途径,重点介绍了化学增强等离子体与光学表面的相互作用、材料去除机理、等离子体参数控制等关键技术问题;以低损耗光学薄膜制备为例,总结了离子束溅射技术在相关领域的应用,分析对比了离子束溅射、双离子束溅射、磁控溅射等技术手段在低损耗光学薄膜制备中的技术特点,重点介绍了等离子体参数对低损耗光学薄膜特性的影响。展望了利用等离子体技术实现先进光学制造,对于发展高性能光学系统的作用和意义

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