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一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构

杨长胜  程海峰  唐耿平  李效东  楚增勇  周永江  
【摘要】:正 磁控溅射铁磁性材料是制备高性能磁性薄膜的主要方法。由于铁磁性靶材的磁屏蔽效应,实现磁控溅射较难,这是限制铁磁性材料镀膜的一个重要因素。本文提出了一种磁控溅射铁磁材料的靶材结构,这种结构的靶材有效的解决了铁磁性材料的磁控溅射成膜问题,在工厂实践中成功应用。

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