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退火对于碳氮薄膜结构的影响

王晓姹  李志青  吴萍  姜恩永  白海力  
【摘要】:正 退火是对样品进行热处理的一种有效手段,它对于促进薄膜结构的有序化,消除薄膜内的缺陷和应力,改善薄膜的性能,确定薄膜应用的温度范围,都具有重要的意义。目前所制备的最稳定的碳氮薄膜在加热到700℃以上才发生分解。大量的报道集中于研究退火过程中薄膜成分和微观结构的变化以及各种化学键的相对稳定性,但结果却很不一致。我们采用对向靶直流磁控溅射系统在纯氮气下制备了碳氮薄膜,并对制备态的样品分别在300,450,550,650℃下退火1小时。对系列样品的X射线光电子谱、拉曼光谱测试表明退火并未使薄膜结构石墨化,随着退火温度的增加薄膜中的线性sp~2结构增加,同时薄

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