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脉冲偏压电弧离子镀的发展现状及前瞻

闻立时  黄荣芳  
【摘要】:正 一、前言气相沉积薄膜技术及其产业化,是当代表面工程发展前沿最主要的组成部分。而电弧离子镀(ArcIon Plating,AIP)则是诸多气相沉积镀膜技术中,在这一进程中,表现得最为活跃、最具发展潜力的过程工艺技术之一。本文致力于集中探讨脉冲偏压电弧离子镀技术各种表观行为下的深层本质和作用机制,并在此基础上论述其发展走向和取得新进展的可能性。二、电弧离子镀技术的应用及存在的问题70年代中期,俄罗斯人发明了电弧离子镀。该

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