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TiN镀膜玻璃的常压化学气相沉积法制备及其光电性能研究

张涛  赵高凌  韩高荣  
【摘要】:由于氮化钛(TiN)有高机械硬度、强耐腐蚀性和低电阻率等诸多优良性能,已经在切割刀具的保护涂层、装饰膜、薄膜电阻器等很多领域被广泛研究。本研究旨在利用TiN薄膜的低的电阻率,制备一种新型的节能镀膜玻璃。根据基尔霍夫定律和Drude理论,由TiN的低电阻率可推测其具有高的红外光反射率,同时通过控制TiN薄膜的厚度,有望得到在可见光区有较高透过率的TiN薄膜,所以本研究用常压化学气相沉积法在玻璃基板上沉积TiN薄膜以得到TiN镀膜的低辐射膜玻璃。利用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)等测试手段来研究基板温度,TiCL4、NH3流速,沉积时间和薄膜微观结构之间的关系。同时研究薄膜微观结构对其光电性能和低辐射性能的影响。实验结果表明:随着基板温度升高、反应时间延长和N/Ti比的增加,薄膜结晶性能提高(见图1),同时电阻率降低。而TiN的可见光透过率与N2流量、基板温度和反应时间有密切关系。

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