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基片预处理及电沉积电流密度对超级电容器用二氧化锰薄膜性能影响

王宇  雷军鹏  朱用  敬春梅  胡敏艺  闫忠强  
【摘要】:采用X射线衍射分析(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、金相显微镜(Metal lurgical Microscopy)、循环伏安扫描法(CV)等分析方法,探索了电沉积法制备超级电容器用二氧化锰薄膜过程中,基片预处理工艺及电沉积电流密度对材料表面微观形貌、电化学性能的影响。研究表明:电沉积用不锈钢基片经金相砂纸打磨(600#水磨金相砂纸)、有机溶剂除油(丙酮清洁6min)、化学除油(65℃,15min)、阴性电化学除油(Dk=45mA·cm-2)、化学腐蚀抛光(F3配方,1min)处理后可获得二氧化锰薄膜生长所需理想微观不平表面;随着电沉积电流密度的增加,薄膜表面开裂情况总体呈现加剧趋势,但当阳极电流密度为10mA·cm-2时电沉积制备的薄膜表面呈均匀粗糙颗粒状表面,无开裂现象且电极比电容最大(315F/g)。

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