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磁场对直流等离子体射流CVD法沉积金刚石膜的影响

周克崧  代明江  王德政  韩培刚  冯碧  
【摘要】:在直流等离子体射流CVD装置上安装了磁铁装置,沉积出较大面积均匀金刚石膜(d30mm)。用XRD,Raman,SEM研究了金刚石膜的结构、组分和形貌,并用表面轮廓仪评估了磁场对金刚石膜厚度均匀性的影响。结果表明:在同样基片温度、气体浓度、枪功率等条件下,加磁场能提高金刚石膜的纯度,改善金刚石膜厚度均匀性,使金刚石颗粒均匀性得到提高,晶粒得到细化,但对金刚石膜内的缺陷数量,微晶尺寸大小影响不大。最后对磁场效应进行了讨论和解释。

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