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微晶硅薄膜的低温制备

朱美芳  冯勇  刘丰珍  刘金龙  韩一琴  
【摘要】:正微晶硅薄膜由于高吸收系数、稳定性等优点在薄膜太阳电池和薄膜晶体管等大面积电子学方面有明确的应用,玻璃衬底低温工艺的研究对实现大面积沉积和降低成本有着重要的意义.采用热丝CVD(HWCVD)、PECVD和热丝助PECVD(HW-PECVD)等沉积技术在低温(300℃).高氢稀释度(98%)条件下制备了微晶硅薄膜,采用Ramam散射、XRD、IR等技术研究了微晶硅薄膜的结构特性.

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