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PECVD非晶硅膜的均匀性

刁宏伟  徐艳月  张世斌  王永谦  廖显伯  
【摘要】:正采用PECVD法制备的非晶硅薄膜的均匀性受到多种工艺参数的影响.这些参数中,一类是沉积过程的工艺参数,如反应气体的气压、反应气体的流速、功率密度等;另一类是设备结构参数,它们决定了反应气体的气流分布和电场分布等.

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