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胶体刻蚀与纳米图案化

张刚  汪大洋  杨柏  
【摘要】:正胶体晶体是尺寸均匀的单分散结构单元组装成的,具有二维或三维高度有序的阵列结构,因而以胶体晶体为模板进行图案化有着过程简单、重复性好、适用性广以及能够在短时间内形成大面积有序结构的优点。Van Duyne等人发展了以单分散微球的自组装单层为模板,结合可控沉积的表面结构图案化技术,在表面上形成了二维高度有序的纳米粒子的阵列图案,图案的尺寸及其间隔可以由不同尺寸的球形微粒精确地控制。这种方法具有过程简单而且在

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