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分子基铁电薄膜研究

游效曾  宋友  左景林  
【摘要】:正铁电材料在信息存储、图像显示和全息照相等高新技术中有着广泛的应用。在以往的铁电材料中,主要研究对象是无机化合物,例如钙钛矿型的含氧八面体,RbHPO_4型含氢键的铁氧体。早在 30年代,对于硫酸三甘氨酸(TGS),两性的内胺化合物、罗息盐(NaKC_4H_4O_6·4H_2O)等其他分子基的铁电体就进行了研究,但是,对配位聚合铁电体的研究比较少。

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