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用于玻璃刻蚀的新型光刻胶

柯旭  巫文强  王跃川  
【摘要】:正近10年来微型元器件和微型系统(MEMS)的发展令人瞩目,已经显现了现实和潜在的应用价值。玻璃是MEMS的主要材料,各种类型的玻璃材料在微光电系统及生物芯片中得到了大量的应用,玻璃的刻蚀技术成为MEMS的关键环节。直接使用光刻胶作为玻璃表面的掩膜是最经济、最方便的方法,但无论正型或负型光刻胶,在HF湿法刻蚀时仅1-3分钟就从玻璃基材上漂浮、脱落,原因来自两方面:一是光刻胶掩膜与玻璃的附着力不够,另一原因是刻蚀

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