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铜表面修饰硅烷膜的结构与性能研究

林克发  黄令  杨防祖  许书楷  周绍民  
【摘要】:正在金属基底上组装一层排列紧密的有机硅烷衍生物分子层,可以便金属的表面性质发生很大的变化, 其自组装是基于有机硅烷化合物与基底表面羟基的结合,同时伴随着横向的Si-O-Si形式的交联能够形成一个较厚的膜或隔离层,对金属的腐蚀均有十分良好的缓蚀作用.3-巯基丙基三甲氧基硅烷((CH3O) 3Si-(CH2)3-SH)(MPTS)由于一端具有硫醇结构而另外一端为疏水性的甲氧基被用于自组装膜的研究.本文拟在经电化学精细抛光后的铜电极表面制备3-巯基丙基三甲氧基硅烷膜,采用红外发射光谱研究膜的表面结构,运用电化学技术测定MPTS膜/Cu电极在0.5M NaOH中对耐腐蚀性能.

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