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碳化硅表面硅改性层的特性研究

张峰  范镝  高劲松  
【摘要】:为了获得高质量光学表面的非球面碳化硅反射镜,需对碳化硅反射镜表面进行改性。首先简要介绍了碳化硅反射镜表面改性技术,并采用离子束辅助沉积(IBAD)硅的改性技术来对碳化硅表面进行改性。然后对改性样片表面硅改性层的牢固度、抗热震荡性、光学加工性、表面粗糙度及反射率等特性进行研究。研究结果表明:硅改性层与碳化硅基底结合牢固,具有很强的抗热震荡性和良好的光学加工性,加工后改性样片的表面致密程度大大提高,其表面粗糙度为0.85nm(Rq值)、在可见光波段反射率最高可达98.5%(镀银反射膜)。最后采用小磨头数控加工方法对口径为Ф600mm的表面改性离轴非球面碳化硅反射镜进行加工,最终硅改性层的面形精度的均方根值达到0.018λ(λ=0.6328μm),满足高精度非球面空间反射镜所需的技术指标要求。

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