收藏本站
收藏 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

对矩形基片的旋转涂胶工艺的实验研究

邱克强  谢永军  洪义麟  徐向东  付绍军  
【摘要】:全息离子束刻蚀衍射光栅制作涉及多步工艺,涂胶作为其中一个环节,所涂布的光刻胶层的厚度,尤其是膜厚均匀性将直接影响光刻胶浮雕光栅图形的质量。全息光栅制作工艺中的两种常用涂胶方法——提拉法与旋转法,经过几十年的发展,旋转涂胶以其稳定、可靠、设备简单、操作容易以及能形成坚固的膜层等优点而逐渐发展成熟,并成为人们首选的一种涂胶技术。对于矩形基片,尤其是尺寸较大的矩形基片,一般的旋转涂胶装备和涂胶参数将带来很大的问题,因此人们更愿意尝试提拉涂胶。

知网文化
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前20条
1 占平平;刘卫国;;EUV光刻技术进展[J];科技信息;2011年21期
2 刘小涵;冯晓国;赵晶丽;高劲松;张红胜;程志峰;;球面旋涂光刻胶工艺[J];光学精密工程;2011年08期
3 徐晨;王宝强;刘英明;解意洋;沈光地;;掩膜对GaAs基二维光子晶体ICP刻蚀效果的影响[J];纳米技术与精密工程;2011年03期
4 黄占喜;吴亚明;李四华;;基于多掩膜光刻工艺的MEMS体硅加工[J];功能材料与器件学报;2011年03期
5 马万里;赵文魁;;局部增强压焊块铝层厚度的工艺方法[J];电子工业专用设备;2011年07期
6 余秋香;易云;;双光源DMD数字光刻系统[J];光机电信息;2011年08期
7 罗跃川;韩尚君;王雪敏;吴卫东;唐永建;;GaAs/AlGaAs多层膜刻蚀的陡直度[J];信息与电子工程;2011年03期
8 习毓;;高频大功率开关晶体管设计研究[J];民营科技;2011年08期
9 吕文辉;张帅;;图形化硅纳米线阵列场发射阴极的制备及其场发射性能[J];液晶与显示;2011年04期
10 习毓;白朝辉;刘文辉;丁文华;;高频开关晶体管设计研究[J];黑龙江科技信息;2011年25期
11 彭祎帆;袁波;曹向群;;光刻机技术现状及发展趋势[J];光学仪器;2010年04期
12 蒋小平;刘德森;张凤军;周素梅;赵志芳;陈小梅;;一种掩埋式复眼微透镜阵列[J];光电子.激光;2011年08期
13 ;[J];;年期
14 ;[J];;年期
15 ;[J];;年期
16 ;[J];;年期
17 ;[J];;年期
18 ;[J];;年期
19 ;[J];;年期
20 ;[J];;年期
中国重要会议论文全文数据库 前10条
1 邱克强;谢永军;洪义麟;徐向东;付绍军;;对矩形基片的旋转涂胶工艺的实验研究[A];中国光学学会2006年学术大会论文摘要集[C];2006年
2 韩婷婷;李波;李玉香;王卿璞;;超临界CO_2微乳液对高浓度离子注入光刻胶的清洗[A];第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集(第6分册)[C];2010年
3 常磊;;ULSI配套材料248nm(KrF)光刻胶[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年
4 黄志齐;;ULSI用新型高性能光刻胶的研究制[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年
5 柯旭;巫文强;王跃川;;用于玻璃刻蚀的新型光刻胶[A];2006年全国高分子材料科学与工程研讨会论文集[C];2006年
6 王力元;;193nm光刻胶用光产酸剂研制[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年
7 穆启道;;我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展[A];电子专用化学品高新技术与市场研讨会论文集[C];2004年
8 袁红钦;周立锋;;液晶显示器LCD用正性光刻胶研究[A];电子专用化学品高新技术与市场研讨会论文集[C];2004年
9 罗玉清;郝巍;;涂胶工艺对Nomex蜂窝性能的影响[A];第十五届全国复合材料学术会议论文集(上册)[C];2008年
10 刘宏开;罗崇泰;王多书;陈焘;;光刻工艺中预曝光技术机理分析与应用研究[A];第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集[C];2006年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 林宏;新型紫外纳米牙印光刻胶的研究[D];上海交通大学;2012年
2 苑光辉;微纳结构光子学器件设计及理论分析[D];中国科学技术大学;2007年
3 张自军;磁性微结构的制作及其特性研究[D];中国科学技术大学;2008年
4 李晓光;紫外光刻仿真及掩模优化设计研究[D];中国科学技术大学;2007年
5 尉伟;微盘光谐振腔的制作研究[D];中国科学技术大学;2007年
6 李木军;接近式光刻仿真研究[D];中国科学技术大学;2007年
7 邱克强;软X射线透射光栅制作[D];中国科学技术大学;2008年
8 盛斌;利用天然氧化层掩模的真空紫外硅闪耀光栅的湿法刻蚀制作[D];中国科学技术大学;2009年
9 付世;磁致双稳态MEMS电磁微继电器的研制[D];上海交通大学;2008年
10 冯宗财;高支化碱溶性聚酯的合成及其微光学光刻胶[D];四川大学;2001年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 朱冬华;三苯胺多枝化合物为引发剂的光刻胶过程作用的研究与含三苯胺的化合物合成[D];苏州大学;2010年
2 苏雷;光刻胶黏附力对MEMS工艺影响的研究[D];天津大学;2012年
3 韩婷婷;超临界CO_2微乳液去除光刻胶的研究[D];山东大学;2011年
4 李波;超临界CO_2用于光刻胶去除和低k材料修复的研究[D];山东大学;2012年
5 周丰;对彩色滤光膜RGB光刻胶性质的分析与研究[D];复旦大学;2011年
6 陈明;掩模板光刻工艺研究[D];复旦大学;2011年
7 浦东林;光刻胶傅里叶全息图的记录条件及防伪应用研究[D];苏州大学;2003年
8 张春晖;光刻工艺中的曲面胶厚检测[D];浙江大学;2010年
9 马建霞;VLSI曝光成像效果的技术研究[D];电子科技大学;2005年
10 慕利娟;高温超导滤波器的研制[D];北京工业大学;2006年
中国重要报纸全文数据库 前10条
1 记者 李大庆;我第一条百吨级高档光刻胶生产线投产[N];科技日报;2009年
2 任英勇;涂胶工艺与纸箱强度[N];中国包装报;2002年
3 本报记者 赵艳秋;光刻胶行业:“刻”不容缓[N];中国电子报;2002年
4 盈如;永光建立世界级光刻胶供货商地位[N];电子资讯时报;2005年
5 本文由永光化学电处技术发展部提供;光刻胶在LED工艺上的使用技术[N];电子资讯时报;2004年
6 梁立明 DigiTimes;深耕IC光刻胶产品 完备两岸三地布局[N];电子资讯时报;2006年
7 张伟;FSI全新无灰化、湿法光刻胶去除ViPR技术[N];电子资讯时报;2006年
8 北京科华微电子材料有限公司董事长兼总经理 陈昕;多方努力寻求高档光刻胶突破[N];中国电子报;2009年
9 任英勇;再谈涂胶工艺[N];中国包装报;2005年
10 ;90纳米时代 IC工艺的光刻胶[N];电子资讯时报;2004年
中国知网广告投放
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62982499
  • 010-62783978