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掺铒对激光烧蚀制备纳米硅晶薄膜形貌的影响

周阳  褚立志  卢丽芳  李艳丽  邓泽超  王英龙  彭英才  
【摘要】:纳米Si(nc-Si)薄膜明显的量子发光效应以及Si成熟的集成工艺使之在大规模光电集成领域有着诱人的应用前景。在诸多制备nc-Si薄膜的方法中,脉冲激光烧蚀(PLA)技术因具有玷污小和生长速率快等优点,引起了人们的广泛关注。大量研究表明:可以通过调整环境气体的种类及压强、靶衬间距等手段制备含有不同晶粒尺寸的nc—Si薄膜,但普遍存在晶粒尺寸大小不一、分布不均匀的缺点。进一步提高薄膜中纳米粒子的有序性是亟待解决的问题。

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