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大粗糙度表面的消光法椭偏测量技术研究

黄佐华  王礼娟  
【摘要】:正纳米级薄膜椭偏测量技术是当前的研究热点。随纳米薄膜器件及技术的发展和进步,已出现在大粗糙度表面材料如金属、陶瓷和玻璃等镀膜的应用。而常规的椭偏技术仅适用于光滑表面或微粗糙表面及其膜层光学系数的检测,本文对常规反射消光法椭圆偏振法测量系统进行改进,引入空间滤波器,从粗糙面的散射光中选出相应的光滑平面反射光束,有效地消除散射光的影响。从理论上分析采用反射消光法椭圆偏振法获取样品消光角的可行性,推导得到散射光通过检偏器到达探测器的光强表达式

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