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图形转移工艺制作聚合物折射微透镜阵列

赖建军  柯才军  周宏  易新建  
【摘要】:高性能可旋涂光学聚合物制作的光学元件可以方便地集成于光电芯片中。研究了用于提高图像传感器的感光单元灵敏度的聚合物微透镜阵列的制作技术。普通的光刻胶通过热熔成型工艺可以制作折射型的微透镜,但由于材料特性的限制,不适合于作为光电芯片的集成光学元件。通过反应离子刻蚀可以将光刻胶微透镜图形转移至这种高性能的聚合物材料上。实验研究了采用聚酰亚胺和聚二甲基硅氧烷两类聚具有高光学透过率和工艺兼容性的聚合物材料制作微透镜阵列的反应离子刻蚀图形转移工艺。通过控制反应离子刻蚀工艺参数如气体配比、总气压和射频功率等,制作了高表面质量的聚合物微透镜阵列。

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