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离子刻蚀矩形位相光栅衍射特性研究

陈洪璆  王杰波  曹向群  
【摘要】：,采用微电子工艺的光刻、离子刻蚀等技术制作用于高密度光盘数据存储系统光学拾取头中分束的位相光栅,并对制得样品进行轮廓形貌和衍射特性测试。这种方法能够有效地控制位相调制深度,从而使得制作的位相光栅满足实际系统的要求。

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