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高速钢基体离子注硼对c-BN薄膜生长的影响

谭俊  蔡志海  张平  
【摘要】:本文采用射频磁控溅射法在离子注硼的硅和高速钢基体上沉积制备c-BN薄膜,采用各种现代分析方法对沉积的薄膜进行了表征分析,包括傅立叶红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)等分析方法;试验结果表明:硅基体上离子注硼有利于c-BN薄膜内应力的降低;合适的注硼剂量注入高速钢基体有利于c-BN的生成和薄膜内应力的降低。AFM分析表明注硼处理的高速钢基体上沉积的薄膜表面形貌平整,结晶性较好。并采用X射线衍射分析(XRD)和XPS方法对硅和高速钢基体注硼层进行了成分与组织结构分析,探索研究了注硼层对c-BN薄膜生长的影响。

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