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Engineering of Graphene Structure for Electronics

【摘要】:Graphene has attracted much attention owing to its unique structures,superior properties,and promising device applications.Two challenges existing in this field are the wafer-scale production of graphene on various substrates and the graphene fabrication techniques with welldefined structure control.In this talk,I will present our recent results addressing these two fundamental issues.First,we developed for the first time a catalyst free graphene growth technique.We can directly grow nanocrystalline graphene film by remote-plasma enhanced chemical vapor deposition (R-PECVD) on various substrates including SiO2,quartz,Al2O3,sapphire,Si,metal and even glass.This simple,low-cost,and scalable growth approach is compatible to traditional semiconductor processing technologies and might have potential applications for thin film resistor,gas sensor,electrode materials,transparent conducting films,and so on.Secondly,we developed for the first time a controllable anisotropic etching technique for graphene.Using this approach combined with lithographic techniques,we are able to fabricate various graphene nanostructures,such as graphene nanoribbons,with well-defined zigzag edges and a ribbon width less than 10 nm.This technique is good for future graphene integrated electronics.

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