收藏本站
收藏 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

O/N比率对磁控溅射制备TiN_xO_y薄膜光学性质的影响

王建强  沈辉  汪保卫  
【摘要】:用直流反应磁控溅射设备,在不同O/N比率条件下,在铜片和载玻片上制备了TiNxOy薄膜。用分光光度计、nk薄膜光学分析仪和台阶仪测试了样品的反射率、光学常数(nk)及膜厚。结果发现随O/N比率提高,薄膜的吸收率、 190~900 nm范围内的平均折射率、500 nm附近的折射率和450 nm处的消光系数有了明显提高;但O/N比率过高时,薄膜热发射率增加,700 nm处的k值和沉积速率急剧减小。

知网文化
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前20条
1 佟洪波;巴德纯;闻立时;;中频反应磁控溅射制备AlN薄膜的工艺研究[J];真空科学与技术学报;2007年04期
2 黄金昭;徐征;李海玲;亢国虎;王文静;;氧化铁镍薄膜的制备与表征[J];光电子.激光;2007年04期
3 宋秋明;黄烽;李明;谢斌;王海千;姜友松;宋亦周;;反应磁控溅射制备SiO_x渐变折射率红外梳状滤光片[J];中国激光;2009年08期
4 田俊红;;磁控溅射制备CrN_x薄膜及其结构和性能研究[J];真空与低温;2007年03期
5 王君安;王浩;薛双喜;曹歆;杨辅军;汪汉斌;高云;黄忠兵;;反应磁控溅射制备超亲水性SiO_2/TiO_2多层膜的研究[J];真空科学与技术学报;2006年02期
6 佟洪波;柳青;巴德纯;;反应磁控溅射研究进展[J];真空;2008年03期
7 张小玲;孙晓冬;张凯;胡光;胡靖华;顾豪爽;;磁控溅射氮化铝薄膜取向生长工艺研究[J];武汉理工大学学报;2009年12期
8 张盛武;黄烽;李明;宋秋明;谢斌;王海千;赵东锋;陈旸;姜友松;宋亦周;;在反应磁控溅射过渡区制备高反射膜的工艺控制[J];中国激光;2009年01期
9 杨建军;何欣;王燕斌;杨会生;;磁控溅射沉积氮化铝薄膜中等离子体光谱研究[J];西安工业学院学报;2005年06期
10 黄常刚;何智兵;王朝阳;唐永建;;反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜的研究进展[J];材料导报;2006年S2期
11 朱丽;江美福;宁兆元;杜记龙;王培君;;不同射频输入功率下制备的氟化类金刚石碳膜疏水性研究[J];物理学报;2009年09期
12 梁海锋;周扬;严一心;;直流磁过滤电弧沉积氮化铝薄膜的研究[J];红外与激光工程;2006年S2期
13 梁俊华;郭冰;刘旭;;利用同质缓冲层溅射生长c轴择优取向氮化铝薄膜[J];浙江大学学报(工学版);2007年09期
14 卢宝文;徐学科;余祥;范正修;;不同沉积速率下热蒸发银膜的光学性能和结构分析[J];光学学报;2010年01期
15 米高园;朱昌;戚云娟;达斯坦科;格拉索夫;扎瓦斯基;;离子束反应溅射沉积SiO_2薄膜的光学特性[J];应用光学;2011年02期
16 余华;崔云;申雁鸣;齐红基;邵建达;范正修;;沉积速率对热舟蒸发LaF_3薄膜性能的影响[J];中国激光;2007年11期
17 江美福,宁兆元;反应磁控溅射法沉积的氟化类金刚石薄膜的结构分析[J];功能材料;2004年01期
18 马大衍,马胜利,徐可为,S.Veprek;反应磁控溅射制备Ti-Si-N薄膜的摩擦磨损性能[J];中国有色金属学报;2004年08期
19 胡云慧,彭传才,黄广连;反应磁控溅射沉积ITO膜工艺稳定性的研究[J];真空;1999年02期
20 江美福,宁兆元;氟化类金刚石薄膜的拉曼和红外光谱结构研究[J];物理学报;2004年05期
中国重要会议论文全文数据库 前10条
1 王建强;沈辉;汪保卫;;O/N比率对磁控溅射制备TiN_xO_y薄膜光学性质的影响[A];纳米材料与技术应用进展——第四届全国纳米材料会议论文集[C];2005年
2 梁海锋;周扬;严一心;;直流磁过滤电弧沉积氮化铝薄膜的研究[A];2006年全国光电技术学术交流会会议文集(B 光学系统设计与制造技术专题)[C];2006年
3 张霄;杭凌侠;周顺;;PECVD法在硅基底上沉积SiO_2薄膜的光学特性研究[A];TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2009年
4 徐艳月;张世斌;刁宏伟;王永谦;廖显伯;;氢稀释和频率对非晶硅沉积速率的影响[A];中国太阳能学会2001年学术会议论文摘要集[C];2001年
5 刘文婷;刘正堂;许宁;鹿芹芹;闫锋;;HfO_2薄膜的制备与光学性能[A];第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(1)[C];2007年
6 张文理;陈光华;何斌;朱秀红;马占洁;丁毅;刘国汉;郜志华;宋雪梅;;热丝辅助MW-ECRCVD制备a-Si:H薄膜及硅-氢键合模式变化的研究[A];全国薄膜技术学术研讨会论文集[C];2006年
7 段永利;许生;巴德纯;范垂祯;;使用PEM监控制备光致亲水性TiO_2薄膜的研究[A];中国真空学会2006年学术会议论文摘要集[C];2006年
8 王寿设;;采用PEM控制生产介质膜在连续镀膜生产线上的应用[A];TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2005年
9 朱春燕;朱昌;;反应磁控溅射AlN薄膜性能的研究[A];TFC'07全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2007年
10 段永利;许生;巴德纯;范垂祯;;中频反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的微观结构及光学性能[A];第八届全国真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集[C];2007年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 江美福;反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的结构和性能研究[D];苏州大学;2005年
2 佟洪波;反应磁控溅射制备AlN薄膜及其发光性能研究[D];东北大学;2008年
3 宋秋明;SiO_x渐变折射率薄膜与ZnO透明导电薄膜的反应磁控溅射工艺及机理研究[D];中国科学技术大学;2008年
4 周家斌;Ni-AlN太阳能选择性吸收涂层中频磁控溅射技术研究[D];中国地质大学(北京);2007年
5 李莉;脉冲激光烧蚀及靶材光学性质的研究[D];华中科技大学;2007年
6 魏雄邦;氧化钒薄膜的制备、微结构与特性研究[D];电子科技大学;2008年
7 刘志文;反应磁控溅射ZnO薄膜在Si基片上的生长行为[D];大连理工大学;2006年
8 李智华;KTN薄膜制备与PLD机理研究[D];华中科技大学;2004年
9 魏贤华;氧化物铁电薄膜生长与界面控制方法研究[D];电子科技大学;2005年
10 高鹏;等离子体增强沉积C-N-Si超薄保护膜[D];大连理工大学;2007年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 王振伟;非平衡反应磁控溅射迟滞效应的PID神经网络控制仿真研究[D];大连理工大学;2009年
2 李春领;反应磁控溅射法制备玻璃基TiO_2/TiN/TiO_2多层薄膜的研究[D];武汉理工大学;2004年
3 祁俊路;射频反应磁控溅射法制备Al_2O_3薄膜结构与性能的研究[D];合肥工业大学;2006年
4 陈庆连;反应磁控溅射制备VO_2薄膜及表面特征研究[D];合肥工业大学;2006年
5 李新领;装饰薄膜氮化锆的中频反应磁控溅射沉积工艺的研究[D];河北农业大学;2005年
6 芦奇力;MWECR CVD制备:a-Si:H薄膜的沉积速率研究和红外分析[D];北京工业大学;2003年
7 蒋雅雅;磁控溅射制备氮化钛薄膜及其结构与导电性能的研究[D];南昌大学;2008年
8 蔡文浪;Al_2O_3与LaF_3薄膜在193nm波段的特性研究[D];浙江大学;2007年
9 王培君;氟化类金刚石薄膜摩擦特性的研究[D];苏州大学;2010年
10 胡利民;AlN薄膜的制备与介电性能研究[D];中南大学;2007年
中国重要报纸全文数据库 前3条
1 陈强;新型SiOx高阻隔薄膜的制备技术[N];中国包装报;2007年
2 崇政 韩永生;氧化硅薄膜包装材料及加工技术的现状及发展[N];中国包装报;2011年
3 常建龙 王婧 郝晓丽;徐耀:光学薄膜领域的探索者[N];科技日报;2011年
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62982499
  • 010-62783978