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FePt基纳米复合膜的结构与磁性

王浩  王君安  曹歆  薛双喜  杨辅军  MF Chiah  N Ke  WY Cheung  SPWong  
【摘要】:基于磁过滤脉冲真空电弧沉积(PFVAD)技术,采用共沉积与交替沉积多层膜两种不同工艺并结合退火制备了一系列FePt纳米复合膜。采用共沉积方法制备的FePt-C薄膜能够将Ll0相变温度降到500℃左右,并且颗粒尺寸为12.5nm,矫顽力(HC)达到了7.5 kOe,饱和磁化强度(Ms)为700emu/cm3。对采用多层膜方法制备的FePt薄膜,研究了C,Cu,Ag等掺杂对薄膜Ll0相变以及磁性能的影响。结果表明:通过Cu掺杂能够将相交温度降低到300℃,Cu最佳掺杂量为12 at.%。C和Ag掺杂在薄膜从无序到有序的结构转变中表现出与Cu掺杂不同的机制,而且C比Ag对薄膜相变的影响更大,在350℃退火时,C掺杂已能够有效促进薄膜的相变。

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