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沉积衬底温度对PtSi/Si异质薄膜生长及表面形貌的影响

殷景华  蔡伟  李美成  郑玉峰  王中  王培林  赵连城  
【摘要】:利用X射线光电子谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)及X射线衍射(XRD)等测试技术研究了Pt膜沉积到p-Si衬底上,衬底温度对PtSi/Si异质薄膜生长的影响。结果表明,衬底不加热,薄膜表面粗糙且存在未反应Pt原子和PtSi,Pt_2Si混合相层;衬底加热到300℃,退火后,形成单一、均匀、连续、平坦的PtSi薄膜。因此,衬底加热有利于提高PtSi薄膜质量。

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