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位移探頭校正系統之研究

陳彥良  张國明  劉惠中  
【摘要】:本文描述位移探頭校正系統之建立,可應用於表粗量測系统之垂直位移線性度校正與濾波函數之動態校正,另外此系統亦可用於掃描白光干涉顯微鏡線性度之校正。我們以一特殊PZT載台並配合雷射干涉儀而完成此系統。利用此系統測得探針式量測儀於静態校正中,位移量在5 μm至50μm之間的線性度誤差不會超過0.5%。而動態之濾波校正在調變其表面波長變化為20 μm至100 μm之間,濾波函數表現與ISO 11562規範相符合。另外校正掃描白光干涉顯微鏡之垂直位移,於40 μm量测範圍內得其線性度誤差約為0.2%。

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