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应力对铋系铁电薄膜性能影响的研究进展

吴秀梅  吕笑梅  朱劲松  
【摘要】:应力普遍存在于铁电薄膜中,是影响薄膜性能和薄膜电子器件可靠性的一个重要参数。本文系统介绍了本小组近年来所进行的应力对铋系铁电薄膜(Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12),Bi_(3.15)Nd_(0.85) Ti_3O_(12)和 SrBi_2Ta_2O_9)的铁电性能及与铁电存储有关的开关、疲劳性能等影响的研究。结果表明:张应力有利于增大薄膜的剩余极化和开关电荷量,而压应力却使得两者都降低。还发现:应力对薄膜的开关时间、矫顽场、疲劳性能等都有影响。其结果都与“应力作用下薄膜内铁电畴的重新取向”有关。

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