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离子束辅助沉积非晶硅薄膜红外光学特性研究

黄国俊  潘永强  
【摘要】:非晶硅(a-Si)薄膜是一种重要的红外光学薄膜材料,为了得到非晶硅(a-Si)薄膜红外光学常数与工艺参数之间的关系。在正交试验的基础上,采用Ar离子束辅助电子束热蒸发技术在K9光学玻璃上制备a-Si薄膜。利用美国J.A.WOLLAM公司的M-2000UI型宽光谱变角度椭偏仪和日本日立公司的U-3501型分光光度计,研究了薄膜沉积速率、基底烘烤温度和工作真空度对a-Si薄膜折射率和消光系数的影响。

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