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Mo-Ta扩散连接中的扩散行为

赵峰宽  李京龙  熊江涛  张赋升  孙兵兵  
【摘要】:选取微米级轧制 Mo-Ta 箔材为对象,进行真空扩散连接实验,获得连接接头。采用扫描电镜(SEM)和 X 射线衍射分析(XRD),对界面上的产物以及扩散层形貌进行分析.结果表明,在较低的温度下,在 Ta 内发生了相变生成了过渡相β-Ta,随着温度提高以及保温时间的延长,β-Ta 也随之消失;在相同的保温时间内,加热功率越大其扩散层越厚,在相同的功率下,保温时间越长其扩散层厚度越大;在扩散过程中,Mo 为主要的扩散元素。

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