制备工艺条件对薄膜微结构的影响

【摘要】：本文中我们用不同的方法在石英玻璃、YAG晶体、K9玻璃和LiNbO3晶体等几种衬底上制备了ZrO2, HfO2和TiO2薄膜,HfO2薄膜利用电子束蒸发,离子辅助和离子束溅射三种方法沉积。其中的一些样品进行了不同温度下的退火。而后对所有的样品进行XRD测试,以获得不同条件下得到的薄膜的晶相及晶粒尺寸等薄膜的微结构。实验结果表明:各种薄膜的晶相结果晶粒尺寸强烈地依赖于沉积过程的技术参数,如衬底的种类,沉积温度,沉积方法和退火温度。我们利用薄膜生长机理和分子迁移率解释了不同技术条件下的晶相结构和晶粒尺寸不同的原因。