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Cu-In合金薄膜共沉积过程中pH值的影响

杨恒修  张惠  宋振纶  
【摘要】:Cu-In 合金薄膜是作为通过硒化处理制备 CuInSe_2化合物过程中的前驱薄膜,本文介绍了用电化学方法分析 Cu-In 合金薄膜电沉积过程中的沉积电位与 pH 值之间的相互关系,分析了在即定电位下 pH 值对薄膜沉积过程的影响,并制备了颗粒分布均匀粒度为1微米左右的 Cu-In 合金薄膜.

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