| 1 |
黄蕙芬;陈国平;;电子束蒸发Ta_2O_5薄膜的实验研究[J];真空电子技术;1991年03期 |
| 2 |
邵淑英,范正修,邵建达,沈卫星,江敏华;氧分压对电子束蒸发SiO_2薄膜机械性质和光学性质的影响[J];光子学报;2005年05期 |
| 3 |
梁力恒;;用电子束蒸发和射频磁溅射制备ZnS:Tb,F电致发光薄膜的差别[J];液晶与显示;1988年04期 |
| 4 |
王昌铧,姚宗熙;ACPDP介质膜的实验研究[J];液晶与显示;1999年03期 |
| 5 |
王学华,薛亦渝,赵利,张幼陵;电子束蒸发沉积TiO_2薄膜结构及光学性能的研究[J];武汉理工大学学报;2002年11期 |
| 6 |
汤庆鑫,路丽霞,齐秀英,钟殿强,初国强,刘益春;氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜[J];发光学报;2003年03期 |
| 7 |
阎志军,王印月,徐闰,蒋最敏;电子束蒸发制备HfO_2高k薄膜的结构特性[J];物理学报;2004年08期 |
| 8 |
陈焘;罗崇泰;王多书;金扬利;;电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力测量[J];真空科学与技术学报;2007年02期 |
| 9 |
黄红梁;程树英;黄碧华;;基片温度对电子束蒸发的ZnS薄膜性能的影响[J];光电子.激光;2009年03期 |
| 10 |
尚光强;占美琼;贺洪波;张伟丽;邵建达;范正修;;1053,527,351nm倍频分离膜的制备与性能研究[J];强激光与粒子束;2006年04期 |
| 11 |
吴平;李希;高艳清;邱宏;王凤平;潘礼庆;田跃;;工艺参量对Ni_(80)Fe_(20)薄膜结构与磁电阻特性的影响[J];物理实验;2006年06期 |
| 12 |
张晓松;董孝义;李岚;张艳芳;李江勇;董冬青;;YAGG:Tb,Gd荧光薄膜及其发光性能的研究[J];光电子.激光;2008年05期 |
| 13 |
王孝东;张锦龙;马彬;焦宏飞;丁涛;程鑫彬;;高损伤阈值三倍频分离膜[J];强激光与粒子束;2011年07期 |
| 14 |
吴永刚,吴广明,倪星元,周箴,张慧琴,吴翔;电子束蒸发氧化镍薄膜的电致变色性能[J];应用科学学报;1999年02期 |
| 15 |
郝殿中;吴福全;马丽丽;闫斌;张旭;;工作气压对电子束沉积ZrO_2薄膜折射率和聚集密度的影响[J];光子学报;2006年02期 |
| 16 |
侯海虹;孙喜莲;申雁鸣;邵建达;范正修;易葵;;电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性[J];物理学报;2006年06期 |
| 17 |
李刚;公发全;刘万发;孙龙;孙连春;;化学氧碘激光器中的角立方反射器的研制[J];光学技术;2006年S1期 |
| 18 |
杨陈;樊慧庆;李创;陈晋;;离子束辅助反应电子束蒸发TiO_2薄膜的结构和光学性能[J];材料科学与工程学报;2007年01期 |
| 19 |
黄丽清;潘华强;王军;童慧敏;朱可;任冠旭;王永昌;;多孔氧化铝膜上自组织生长Sn纳米点阵列的研究[J];物理学报;2007年11期 |
| 20 |
董利普;刘玉学;徐长山;刘益春;李亚军;;电子束蒸发结合热处理方法制备高质量Mg_xZn_(1-x)O薄膜[J];发光学报;2008年02期 |
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