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电化学机械光整加工表面形貌特性分析

魏泽飞  徐文骥  庞桂兵  
【摘要】:建立了电化学机械光整加工(ECMF)实验装置,以原始磨削表面粗糙度Ra值为0.23μm的GCr15为研究对象,借助STM6显微镜和TalysurfSLI2000观测了磨削表面与ECMF表面形貌参数。根据实验结果,借助自相关函数(ACF)及功率谱密度函数(PSD)分析了磨削表面及ECMF表面的形貌特性。结果表明:光整加工前后表面轮廓中都含有周期性成分,磨削加工只能在较大的范围内形成周期性轮廓,而ECMF可在小范围内形成周期性轮廓,使表面平均间距大幅减小,降低了原始磨削表面中的低频波动。ECMF可将原始表面粗糙度值由0.23μm降低到0.023μm左右,表面质量、支撑长度和耐磨性明显提高。

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