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高密度等离子体射频溅射制备MgTiO_3-CaTiO_3薄膜的研究

王德苗  董树荣  金浩  余厉阳  
【摘要】:与块状材料比较,介质薄膜具有更好的微波集成特性和损耗特性。本文采用高密度等离子磁控射频溅射法制备出了膜层质量良好的MCT陶瓷薄膜,对MCT薄膜的高密度磁控射频溅射工艺的研究表明:溅射气压及其氧氩比、溅射功率是影响薄膜膜层质量及其介电特性的主要因素,另外一些其他工艺参数如退火工艺温度等也有一定影响。实验获得了优化的射频磁控溅射生长MCT薄膜的工艺。

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