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不同氮分压下磁控溅射的氮化锆涂层对钛瓷结合强度的影响

王舒舒  章非敏  光寒冰  周淑  吴湘君  张文艳  张旭海  
【摘要】:正目的探讨不同氮分压下磁控溅射沉积的氮化锆(ZrN)涂层对低熔瓷粉(V ta钛瓷粉系统)与纯钛结合强度的影响材料与方法将60个纯钛基片随机分为4个组1个对照组(C组)和3个实验组(T组T1组T2组和T3组)。C组仅按照纯钛烤瓷前常规120μm A 2O3喷砂处理3个实验组纯钛基片表面120μm Al2O3喷砂处理然后在不同氮分压下磁控溅射沉积ZrN涂层T1组(氮分压1 0×10-4 Torr) T2组(氮分压4 0×10-4 Torr)和T3组(氮分压8 0×10-4 Torr)。X射线衍射分析仪(XRD)测定ZrN涂层相结构。

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