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介质阻拦放电等离子体降解强温室气体NF_3

宋潇潇  刘新刚  张仁熙  侯惠奇  
【摘要】:正三氟化氮是一种可用作等离子体蚀刻硅半导体材料的气体。由于它蚀刻硅时主要产物为易挥发物,且对于硅具有高选择性和蚀刻速率较高等优点,三氧化氮将作为CF_4和C_2F_6等干蚀刻气体剂的替代品。NF_3在常温下化学性质是稳定的,不会爆炸

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