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CVD钨涂层的残余热应力模拟与分析

朱大焕  王坤  王先平  陈俊凌  方前锋  
【摘要】:正钨及钨合金由于具有较高的熔点、低的溅射率、低的氚滞留以及良好的抗等离子体冲刷能力,是最有希望作为未来聚变装置中面向等离子体第一壁材料,但其高密度限制了其在装

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