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ZnO/M/ZnO金属介质多层膜的慢正电子研究

楼捷  叶邦角  翁惠民  韩荣典  杜淮江  
【摘要】:由脉冲激光沉积法制备了一系列ZnO/Cu/ZnO和ZnO/Al/ZnO金属介质多层透明导电膜。样品的形貌和结晶状态通过了扫描电子显微镜和X射线衍射法来获得。同时还使用了慢正电子注入谱来分析样品的微结构。中间金属介质层比较薄的样品在退火后,其S-E曲线的变化规律与其他样品有着明显的不同。结晶性质,金属与ZnO的相互扩散及金属层的团聚等因素都影响着多层膜的光电性质。合适的退火条件能使多层膜质量提高从而获得低电阻率及高光透过率的多层透明导电膜。

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1 楼捷;叶邦角;翁惠民;韩荣典;杜淮江;;ZnO/M/ZnO金属介质多层膜的慢正电子研究[A];第十届全国正电子湮没谱学会议论文集[C];2009年
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