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基于Si刻图基底制备结构化CsI阵列闪烁屏

常海龙  孙友梅  刘杰  侯明东  段敬来  姚会军  张苓  莫丹  
【摘要】:CsI晶体具有光产额高和抗辐射强等优良性能,尤其是发光谱能够与硅光电二极管完美匹配,被广泛应用于X射线成像、正电子发射断层扫描、无损检测和高能核物理探测等领域。本工作结合光刻技术和物理气相沉积方法(PVD),在Si刻图基底上沉积了具有光导特性的结构化阵列CsI薄膜,对其制备工艺和微观结构进行了研究与分析。

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1 常海龙;孙友梅;刘杰;侯明东;段敬来;姚会军;张苓;莫丹;;基于Si刻图基底制备结构化CsI阵列闪烁屏[A];第十届全国固体核径迹学术会议论文集[C];2009年
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