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直流磁控溅射钛及钛合金薄膜的性能研究

张文峰  刘实  戎利建  
【摘要】:正钛具有高的贮氢比和极低的离解平衡压,而钛基薄膜主要应用在中子靶材等方面。薄膜生长的方法及工艺显著影响薄膜的性质。在薄膜的沉积过程中, 沉积的温度,基片的特性,溅射压力,及预加偏压都是影响薄膜的重要参数, 研究工艺参数对薄膜性能的影响有着重要的意义。用直流磁控溅射的方法制取 Ti 及 Ti 合金薄膜,基片分别为(100)单晶 Si 及 Mo 片,经无水乙醇超声清洗后烘

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